Courtesy of SCMP

Peneliti Tiongkok Capai Terobosan dalam Teknologi Sumber Cahaya EUV

Menunjukkan pencapaian tim peneliti Tiongkok dalam mengembangkan sumber cahaya EUV yang kompetitif secara internasional untuk produksi chip canggih.

29 Apr 2025, 05.00 WIB

36 dibaca

Ikhtisar 15 Detik

Penelitian ini menunjukkan kemajuan signifikan dalam produksi chip canggih di China.
Lin Nan, yang memiliki pengalaman internasional, berperan penting dalam penelitian ini.
Teknologi fotolitografi yang dikembangkan dapat mengurangi ketergantungan China pada teknologi asing.

Shanghai, China - Para peneliti di Tiongkok telah mencapai terobosan dalam produksi chip canggih dengan membangun platform sumber cahaya ultraviolet ekstrem (EUV) yang beroperasi pada parameter yang kompetitif secara internasional. Tim dari Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, yang dipimpin oleh Lin Nan, berhasil mengembangkan teknologi ini. Lin Nan sebelumnya adalah kepala teknologi sumber cahaya di ASML, satu-satunya produsen mesin EUV di dunia.

ASML telah dilarang menjual model EUV paling canggihnya ke Tiongkok sejak 2019 karena tekanan dari Amerika Serikat. Dalam panggilan kepada investor, CEO ASML Christophe Fouquet menyatakan bahwa meskipun mungkin untuk menghasilkan cahaya EUV, akan memakan waktu bertahun-tahun bagi Tiongkok untuk membuat mesin EUV. Namun, dengan pencapaian terbaru ini, Tiongkok menunjukkan kemajuan signifikan dalam teknologi EUV.

Lin Nan kembali ke Tiongkok pada tahun 2021 sebagai bagian dari program rekrutmen tingkat tinggi negara tersebut dan mendirikan kelompok penelitian teknologi litografi canggih. Sebelum bergabung dengan ASML, Lin dibimbing oleh Anne L’Huillier, pemenang Hadiah Nobel Fisika 2023. Pencapaian ini menunjukkan potensi besar Tiongkok dalam mengembangkan teknologi chip canggih secara mandiri.

Sumber: https://www.scmp.com/news/china/science/article/3308204/former-asml-head-scientist-lin-nan-drives-chinas-latest-euv-breakthrough?module=top_story&pgtype=subsection