Courtesy of SCMP

Peneliti China Ciptakan Sumber Cahaya EUV untuk Chip Canggih Mandiri

Menunjukkan pencapaian tim peneliti Tiongkok dalam mengembangkan sumber cahaya EUV yang kompetitif secara internasional untuk produksi chip canggih.

29 Apr 2025, 08.37 WIB

274 dibaca

Ikhtisar 15 Detik

Penelitian ini menunjukkan kemajuan signifikan dalam teknologi fotolitografi di Tiongkok.
Lin Nan, yang memiliki pengalaman internasional, berperan penting dalam pengembangan teknologi ini.
ASML menghadapi tantangan dalam menjual teknologi canggihnya ke Tiongkok karena faktor geopolitik.

Shanghai, China - Para peneliti di Tiongkok telah mencapai terobosan dalam produksi chip canggih dengan mengembangkan platform sumber cahaya ultraviolet ekstrim (EUV) yang beroperasi pada parameter yang kompetitif secara internasional. Tim ini berasal dari Chinese Academy of Sciences di Shanghai dan dipimpin oleh Lin Nan, mantan kepala teknologi sumber cahaya di ASML.

ASML adalah satu-satunya produsen mesin EUV di dunia dan telah dilarang menjual model terbarunya ke Tiongkok sejak 2019 karena tekanan dari Amerika Serikat. Lin Nan kembali ke Tiongkok pada tahun 2021 sebagai bagian dari program rekrutmen tingkat tinggi dan mendirikan kelompok penelitian teknologi litografi canggih yang bertanggung jawab atas pencapaian ini.

Sebelum bergabung dengan ASML, Lin Nan dibimbing oleh Anne L’Huillier, pemenang Hadiah Nobel Fisika 2023. Pencapaian ini menunjukkan bahwa Tiongkok semakin mendekati kemampuan untuk memproduksi mesin EUV sendiri, meskipun masih ada tantangan yang harus dihadapi.

Referensi:
[1] https://www.scmp.com/news/china/science/article/3308204/former-asml-head-scientist-lin-nan-drives-chinas-latest-euv-breakthrough?module=top_story&pgtype=subsection#comments

Analisis Kami

"Penemuan ini menandai titik balik besar dalam kemandirian teknologi semikonduktor China dan membuka kemungkinan reformasi strategis pada rantai pasok global. Namun, tantangan teknis dan hambatan diplomatik masih akan menjadi ujian besar dalam komersialisasi teknologi ini secara masif."

Analisis Ahli

Anne L’Huillier

"Pengembangan sumber cahaya EUV berbasis laser solid-state adalah lompatan penting yang menunjukkan kemajuan signifikan dalam teknologi fotolitografi maju."

Prediksi Kami

China kemungkinan besar akan semakin mempercepat pengembangan teknologi EUV sendiri dan berpotensi mengurangi ketergantungan pada impor untuk produksi chip canggih dalam beberapa tahun ke depan.