Courtesy of InterestingEngineering
Laboratorium AS akan menjelajahi litografi 'di luar EUV' untuk memproduksi semikonduktor yang lebih kuat dengan lebih cepat.
29 Des 2024, 20.53 WIB
78 dibaca
Share
Laboratorium di California, yang dipimpin oleh Lawrence Livermore National Laboratory (LLNL), sedang mengembangkan teknologi lithografi ekstrem ultraviolet (EUV) yang lebih canggih. Proyek ini berfokus pada sistem laser baru yang disebut Big Aperture Thulium (BAT) laser, yang diharapkan dapat meningkatkan efisiensi sumber EUV hingga sepuluh kali lipat dibandingkan dengan laser karbon dioksida yang saat ini digunakan. Dengan teknologi ini, diharapkan dapat memproduksi chip yang lebih kecil, lebih kuat, dan lebih cepat dengan penggunaan listrik yang lebih sedikit.
LLNL telah melakukan simulasi dan demonstrasi laser selama lima tahun terakhir untuk mendukung proyek ini. Lithografi EUV menggunakan laser berdaya tinggi untuk memanaskan tetesan timah yang sangat kecil, menghasilkan cahaya ultraviolet yang digunakan untuk mencetak pola sirkuit terintegrasi pada chip. Proyek ini juga bertujuan untuk meningkatkan efisiensi energi dari sumber lithografi EUV yang ada, yang akan memberikan manfaat besar bagi industri semikonduktor yang terus berusaha membuat mikroprosesor lebih kecil dan lebih kuat.
Pertanyaan Terkait
Q
Apa tujuan utama proyek yang dipimpin oleh LLNL?A
Tujuan utama proyek yang dipimpin oleh LLNL adalah untuk mengembangkan sistem lithografi EUV generasi berikutnya dengan menggunakan BAT laser.Q
Apa yang dimaksud dengan BAT laser?A
BAT laser adalah sistem laser yang dikembangkan oleh LLNL untuk meningkatkan efisiensi sumber EUV hingga 10 kali lipat dibandingkan dengan laser CO2.Q
Bagaimana EUV lithography berfungsi?A
EUV lithography berfungsi dengan menggunakan laser untuk memanaskan tetesan timah yang menghasilkan plasma, yang kemudian menghasilkan cahaya ultraviolet untuk mencetak pola pada chip.Q
Mengapa efisiensi energi penting dalam lithografi EUV?A
Efisiensi energi penting dalam lithografi EUV karena dapat mengurangi konsumsi listrik dan meningkatkan kecepatan produksi chip.Q
Apa dampak dari proyek ini terhadap industri semikonduktor?A
Proyek ini diharapkan dapat memberikan manfaat besar bagi industri semikonduktor dengan memungkinkan pembuatan chip yang lebih kecil dan lebih kuat.Artikel Serupa
Sains
29 hari lalu
113 dibaca
Inovasi DirectDrive: Teknologi Presisi Tinggi untuk Chip Semikonduktor Masa Depan
Sains
1 bulan lalu
53 dibaca
Peneliti Tiongkok Capai Terobosan dalam Teknologi Sumber Cahaya EUV untuk Chip Canggih
Sains
1 bulan lalu
31 dibaca
Peneliti Tiongkok Capai Terobosan dalam Teknologi Sumber Cahaya EUV
Sains
3 bulan lalu
95 dibaca
Ilmuwan AS menciptakan sinar elektron terkuat di dunia dengan kekuatan lima kali lebih besar.
Teknologi
3 bulan lalu
119 dibaca
Intel mengatakan bahwa mesin baru ASML sedang dalam produksi, dengan hasil yang positif.
Sains
3 bulan lalu
87 dibaca
AS merencanakan senjata laser nuklir untuk menembak bahan bakar fusi dengan presisi dalam proyek baru.
Sains
4 bulan lalu
46 dibaca