Courtesy of InterestingEngineering
Inovasi DirectDrive: Teknologi Presisi Tinggi untuk Chip Semikonduktor Masa Depan
Memperkenalkan dan menjelaskan inovasi teknologi DirectDrive yang mampu meningkatkan presisi plasma etching dalam produksi chip semikonduktor dengan kecepatan switching radio frequency yang sangat cepat.
18 Mei 2025, 23.14 WIB
112 dibaca
Share
Ikhtisar 15 Detik
- DirectDrive meningkatkan presisi dalam proses etching plasma untuk semikonduktor.
- Teknologi ini adalah hasil dari kolaborasi yang panjang dan kompleks antara peneliti.
- Inovasi ini dapat mendukung pengembangan elektronik generasi berikutnya, terutama dalam sistem AI.
Los Angeles, California, United States - Membuat chip semikonduktor adalah proses yang sangat rumit karena harus mengukir pola sangat kecil dengan tingkat presisi sangat tinggi. Semakin banyak perangkat yang butuh chip lebih kecil, cepat, dan canggih, permintaan terhadap teknologi etching menjadi lebih penting dan menantang.
Seorang insinyur dari UCLA, Patrick Pribyl, punya ide inovatif di tahun 2006 untuk mengendalikan plasma dalam pembuatan chip. Ia merancang sistem yang bisa mengubah daya radio frequency (RF) dengan cepat untuk mengendalikan plasma, bahkan mulai membuat prototipe di dapurnya sendiri.
Namun, teknologi ini belum langsung bisa dipakai industri. Dibutuhkan bantuan tim ilmuwan lain, termasuk Walter Gekelman, dan riset bertahun-tahun untuk mengembangkan sistem yang kompleks dengan menggunakan laser dan alat khusus. Mereka menemukan bahwa pulsa RF yang dipicu ribuan kali per detik bisa memberikan kontrol lebih baik daripada cara lama dengan aliran daya yang kontinu.
Teknologi baru ini, yang sekarang disebut DirectDrive, mampu mengubah level daya plasma dalam 50 mikrodetik, yang jauh lebih cepat dibandingkan metode tradisional. Ini memungkinkan pola chip yang lebih akurat dan mengurangi cacat dalam proses pembuatan, yang penting untuk chip yang digunakan dalam kecerdasan buatan dan teknologi canggih lainnya.
Saat ini, DirectDrive sudah dipakai dalam alat etsa terbaru untuk membuat sirkuit chip yang sangat maju. Teknologi ini tidak hanya hasil kerja keras puluhan tahun, tapi juga dapat mempercepat perkembangan elektronik generasi berikutnya dengan efisiensi yang lebih baik.
Pertanyaan Terkait
Q
Apa itu teknologi DirectDrive?A
Teknologi DirectDrive adalah inovasi dalam kontrol plasma yang digunakan dalam proses pembuatan chip, memungkinkan etching yang lebih presisi.Q
Siapa yang mengembangkan teknologi DirectDrive?A
Teknologi DirectDrive dikembangkan oleh Patrick Pribyl dan Walter Gekelman di UCLA, dengan dukungan dari tim peneliti lainnya.Q
Mengapa penting untuk memiliki kontrol yang lebih baik dalam proses etching plasma?A
Kontrol yang lebih baik dalam proses etching plasma penting untuk menghasilkan pola yang lebih kompleks dan akurat pada semikonduktor.Q
Apa dampak dari DirectDrive terhadap industri semikonduktor?A
Dampak DirectDrive terhadap industri semikonduktor termasuk pengurangan cacat pola dan peningkatan efisiensi dalam pembuatan sirkuit semikonduktor yang canggih.Q
Berapa lama waktu yang dibutuhkan untuk mengembangkan teknologi ini?A
Waktu yang dibutuhkan untuk mengembangkan teknologi ini adalah sekitar dua dekade.Artikel Serupa
Sains
1 bulan lalu
120 dibaca
Fenomena Backflow Saturation: Mengungkap Hambatan Baru Aliran Elektron di Plasma
Sains
3 bulan lalu
110 dibaca
Chip baru tanpa silikon dari China mengalahkan Intel dengan kecepatan 40% lebih tinggi dan konsumsi energi 10% lebih rendah.
Sains
3 bulan lalu
127 dibaca
‘Mengubah jalur’: China mengumumkan teknologi chip tercepat yang pernah ada – tanpa silikon.
Teknologi
3 bulan lalu
133 dibaca
Chip ajaib: Sistem baru MIT untuk gelombang terahertz dapat memungkinkan elektronik yang efisien.
Teknologi
4 bulan lalu
101 dibaca
Bagaimana terobosan EUV yang memenangkan penghargaan dari China menghindari larangan chip AS
Teknologi
4 bulan lalu
78 dibaca