Bagaimana terobosan EUV yang memenangkan penghargaan dari China menghindari larangan chip AS
Courtesy of SCMP

Bagaimana terobosan EUV yang memenangkan penghargaan dari China menghindari larangan chip AS

19 Jan 2025, 17.00 WIB
110 dibaca
Share
Peneliti di Tiongkok sedang mengembangkan cara baru untuk memproduksi chip semikonduktor yang canggih, terutama dalam teknologi lithografi ultraviolet ekstrem (EUV). Dengan adanya pembatasan yang semakin ketat dari Amerika Serikat, para ilmuwan Tiongkok berusaha mencari solusi inovatif. Salah satu proyek dari Institut Teknologi Harbin baru-baru ini meraih penghargaan pertama dalam kompetisi inovasi di provinsi Harbin. Proyek ini dipimpin oleh Profesor Zhao Yongpeng dan menggunakan pendekatan teknologi yang berbeda dari metode Barat untuk menghasilkan cahaya laser EUV.
Proyek ini disebut "sumber cahaya lithografi ultraviolet ekstrem plasma discharge" dan memiliki beberapa keunggulan, seperti efisiensi konversi energi yang tinggi, biaya rendah, ukuran yang kompak, dan tingkat kesulitan teknis yang relatif rendah. Sumber cahaya ini dapat memproduksi cahaya ultraviolet ekstrem dengan panjang gelombang pusat 13,5 nanometer, yang sangat dibutuhkan dalam pasar fotolithografi. Dalam industri semikonduktor, mesin fotolithografi adalah mesin yang paling kompleks dan sulit untuk diproduksi.
Sumber: https://www.scmp.com/news/china/science/article/3295209/how-chinas-award-winning-euv-breakthrough-sidesteps-us-chip-ban?module=top_story&pgtype=subsection

Pertanyaan Terkait

Q
Apa yang sedang dilakukan peneliti China dalam bidang lithografi EUV?
A
Peneliti China sedang mengembangkan pendekatan inovatif dalam pembuatan chip semikonduktor dengan fokus pada lithografi EUV.
Q
Siapa yang memimpin proyek di Harbin Institute of Technology?
A
Proyek di Harbin Institute of Technology dipimpin oleh Profesor Zhao Yongpeng.
Q
Apa keunggulan dari proyek sumber cahaya lithografi EUV yang dikembangkan?
A
Keunggulan proyek tersebut termasuk efisiensi konversi energi yang tinggi, biaya rendah, ukuran kompak, dan kesulitan teknis yang relatif rendah.
Q
Mengapa lithografi EUV penting dalam industri semikonduktor?
A
Lithografi EUV penting karena merupakan mesin yang paling kompleks dan sulit untuk diproduksi dalam industri semikonduktor.
Q
Apa yang dicapai oleh tim penelitian di kompetisi inovasi di Harbin?
A
Tim penelitian tersebut meraih penghargaan pertama di kompetisi inovasi pencapaian transformasi di Harbin.

Artikel Serupa

China Mulai Produksi Massal Chip Fotonik untuk Kuantum dan Komunikasi CepatSCMP
Sains
1 bulan lalu
91 dibaca

China Mulai Produksi Massal Chip Fotonik untuk Kuantum dan Komunikasi Cepat

China Capai Terobosan Teknologi Chip dan Militer Serta Rekrut Ilmuwan TopSCMP
Sains
2 bulan lalu
169 dibaca

China Capai Terobosan Teknologi Chip dan Militer Serta Rekrut Ilmuwan Top

China Capai Terobosan Chip Canggih, Walmart Minta Produsen Lanjutkan PengirimanSCMP
Bisnis
3 bulan lalu
74 dibaca

China Capai Terobosan Chip Canggih, Walmart Minta Produsen Lanjutkan Pengiriman

Peneliti Tiongkok Capai Terobosan dalam Teknologi Sumber Cahaya EUV untuk Chip CanggihSCMP
Sains
3 bulan lalu
62 dibaca

Peneliti Tiongkok Capai Terobosan dalam Teknologi Sumber Cahaya EUV untuk Chip Canggih

Peneliti Tiongkok Capai Terobosan dalam Teknologi Sumber Cahaya EUVSCMP
Sains
3 bulan lalu
37 dibaca

Peneliti Tiongkok Capai Terobosan dalam Teknologi Sumber Cahaya EUV

Juara alat chip SiCarrier menawarkan harapan kemandirian di tengah pembatasan AS.SCMP
Bisnis
4 bulan lalu
137 dibaca

Juara alat chip SiCarrier menawarkan harapan kemandirian di tengah pembatasan AS.

Lembaga China menawarkan gaji 'tanpa batas' untuk bakat dalam pengembangan peralatan pembuatan chip.SCMP
Sains
4 bulan lalu
198 dibaca

Lembaga China menawarkan gaji 'tanpa batas' untuk bakat dalam pengembangan peralatan pembuatan chip.