Rangkuman Berita - Bagaimana terobosan EUV yang memenangkan penghargaan dari China menghindari larangan chip AS

Peneliti di Tiongkok sedang mengembangkan cara baru untuk memproduksi chip semikonduktor yang canggih, terutama dalam teknologi lithografi ultraviolet ekstrem (EUV). Dengan adanya pembatasan yang semakin ketat dari Amerika Serikat, para ilmuwan Tiongkok berusaha mencari solusi inovatif. Salah satu proyek dari Institut Teknologi Harbin baru-baru ini meraih penghargaan pertama dalam kompetisi inovasi di provinsi Harbin. Proyek ini dipimpin oleh Profesor Zhao Yongpeng dan menggunakan pendekatan teknologi yang berbeda dari metode Barat untuk menghasilkan cahaya laser EUV.

Proyek ini disebut "sumber cahaya lithografi ultraviolet ekstrem plasma discharge" dan memiliki beberapa keunggulan, seperti efisiensi konversi energi yang tinggi, biaya rendah, ukuran yang kompak, dan tingkat kesulitan teknis yang relatif rendah. Sumber cahaya ini dapat memproduksi cahaya ultraviolet ekstrem dengan panjang gelombang pusat 13,5 nanometer, yang sangat dibutuhkan dalam pasar fotolithografi. Dalam industri semikonduktor, mesin fotolithografi adalah mesin yang paling kompleks dan sulit untuk diproduksi.

Pertanyaan Terkait

Apa yang sedang dilakukan peneliti China dalam bidang lithografi EUV?

Peneliti China sedang mengembangkan pendekatan inovatif dalam pembuatan chip semikonduktor dengan fokus pada lithografi EUV.

Siapa yang memimpin proyek di Harbin Institute of Technology?

Proyek di Harbin Institute of Technology dipimpin oleh Profesor Zhao Yongpeng.

Apa keunggulan dari proyek sumber cahaya lithografi EUV yang dikembangkan?

Keunggulan proyek tersebut termasuk efisiensi konversi energi yang tinggi, biaya rendah, ukuran kompak, dan kesulitan teknis yang relatif rendah.

Mengapa lithografi EUV penting dalam industri semikonduktor?

Lithografi EUV penting karena merupakan mesin yang paling kompleks dan sulit untuk diproduksi dalam industri semikonduktor.

Apa yang dicapai oleh tim penelitian di kompetisi inovasi di Harbin?

Tim penelitian tersebut meraih penghargaan pertama di kompetisi inovasi pencapaian transformasi di Harbin.

Rangkuman Berita: Bagaimana terobosan EUV yang memenangkan penghargaan dari China menghindari larangan chip AS

Pertanyaan Terkait

Rangkuman Berita Serupa

Juara alat chip SiCarrier menawarkan harapan kemandirian di tengah pembatasan AS.

Lembaga China menawarkan gaji 'tanpa batas' untuk bakat dalam pengembangan peralatan pembuatan chip.

Chip baru tanpa silikon dari China mengalahkan Intel dengan kecepatan 40% lebih tinggi dan konsumsi energi 10% lebih rendah.

‘Mengubah jalur’: China mengumumkan teknologi chip tercepat yang pernah ada – tanpa silikon.

China memimpin AS dalam jumlah dan kualitas penelitian chip, menurut laporan.

Penelitian China tentang chip komputer generasi berikutnya dua kali lipat dari output AS.

Intel mengatakan bahwa mesin baru ASML sedang dalam produksi, dengan hasil yang positif.