Courtesy of SCMP

Teknologi Cryo-ET Turunkan Cacat Produksi Chip Hingga 99 Persen

Mengembangkan metode baru menggunakan cryo-electron tomography untuk mengidentifikasi sumber kesalahan produksi pada litografi chip dan mengurangi cacat hingga 99%, sehingga menurunkan biaya dan meningkatkan kualitas produksi semikonduktor.

30 Okt 2025, 15.17 WIB

111 dibaca

Ikhtisar 15 Detik

Metode baru ini menggunakan Cryo-ET untuk meningkatkan kualitas chip semikonduktor.
Penelitian ini dapat mengurangi defek lithografi hingga 99 persen, memberikan keuntungan biaya yang signifikan.
Kolaborasi antara universitas terkemuka di Tiongkok menghasilkan inovasi yang berdampak besar pada industri semikonduktor.

Beijing, Republik Rakyat Tiongkok - Para peneliti dari China berhasil mengembangkan metode baru menggunakan cryo-electron tomography (cryo-ET) yang mampu mengidentifikasi sumber cacat pada proses litografi dalam pembuatan chip semikonduktor. Teknologi ini sangat penting karena litografi adalah tahap krusial saat mencetak pola sirkuit pada wafer semikonduktor.

Litografi adalah proses yang bisa disamakan seperti menggunakan proyektor ultra-presisi untuk mencetak pola sirkuit mikro pada film khusus yang melapisi wafer silikon. Jika ada kesalahan di tahap ini, akan muncul cacat yang merusak kualitas chip dan menyebabkan biaya produksi meningkat.

Dengan metode cryo-ET baru ini, para peneliti dapat melihat dengan sangat jelas cacat-cacat kecil yang sebelumnya sulit dideteksi, sehingga bisa diperbaiki segera. Hasilnya sangat menggembirakan karena cacat litografi pada wafer berukuran 12 inci dapat dikurangi hingga 99 persen.

Penelitian ini merupakan hasil kerja sama antara tiga universitas ternama di China, yaitu Peking University, Tsinghua University, dan University of Hong Kong. Metode mereka bahkan kompatibel dengan lini produksi yang sudah ada, yang berarti perusahaan bisa dengan mudah mengadopsi teknologi ini tanpa biaya investasi besar pada peralatan baru.

Selain meningkatkan kualitas produk, pengurangan cacat hingga 99 persen ini juga akan menurunkan biaya produksi secara signifikan, membuat industri semikonduktor China lebih kompetitif di pasar global. Publikasi hasil penelitian ini di jurnal Nature Communications juga memberikan pengakuan signifikan atas kontribusi riset ini.

Referensi:
[1] https://www.scmp.com/news/china/science/article/3330869/how-chinas-fancy-tool-cut-chip-defects-99-near-perfect-lithography?module=top_story&pgtype=subsection

Analisis Ahli

Prof. Peng Hailin

"Metode ini dapat secara drastis menurunkan kesalahan cacat tanpa perlu mengubah peralatan utama yang ada, sehingga sangat praktis untuk diadopsi secara luas di industri semikonduktor."

Reviewer dari Nature Communications

"Alat canggih ini sangat membantu baik bagi para peneliti maupun pelaku industri, dan memberikan dampak besar dalam pemahaman serta pengendalian cacat produksi."

Analisis Kami

"Penggunaan cryo-ET untuk mengatasi cacat litografi merupakan inovasi yang membuka potensi besar dalam produksi chip yang lebih efisien dan berkualitas tinggi. Ini bukan hanya langkah maju dalam teknologi manufaktur, tetapi juga bisa mengubah struktur biaya produksi yang selama ini menjadi kendala utama industri semikonduktor global."

Prediksi Kami

Dengan metode ini, industri semikonduktor akan mengalami penurunan signifikan dalam biaya produksi dan peningkatan kualitas chip, memperkuat posisi China dalam rantai pasok global semikonduktor.

Pertanyaan Terkait

Apa itu Cryo-ET dan bagaimana fungsinya dalam industri semikonduktor?

Cryo-ET adalah teknik tomografi elektron kriogenik yang digunakan untuk mengidentifikasi sumber cacat dalam proses lithografi di industri semikonduktor.

Siapa yang memimpin penelitian tentang pengurangan defek dalam lithografi?

Penelitian ini dipimpin oleh Profesor Peng Hailin dari Universitas Peking.

Berapa persen pengurangan defek yang dapat dicapai dengan metode baru ini?

Metode baru ini dapat mengurangi defek dalam lithografi hingga 99 persen.

Di jurnal mana temuan penelitian ini dipublikasikan?

Temuan penelitian ini dipublikasikan di jurnal Nature Communications.

Apa manfaat utama dari penelitian ini bagi industri semikonduktor?

Manfaat utama dari penelitian ini adalah mengurangi biaya produksi dan meningkatkan kualitas chip dengan mengurangi cacat lithografi.